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1,4-Nanometer-Prozess: Samsung plant Nutzung von High-NA-EUV für 2029
Der bereits mehrfach verschobene 1,4-nm-Prozess von Samsung könnte 2029 unter Nutzung von High-NA-EUV starten, schreiben koreanische Medien. Nachdem Samsung die Ausbeute bei 3 nm und 2 nm stabilisiert hat, soll nun der Zukunftsfahrplan wieder stärker in den Fokus rücken. High-NA könnte ein Vorteil sein – aber nicht pauschal.
Bereits im vergangenen Jahr wurde klar, dass Samsung erst einmal die Probleme in den aktuellen Fertigungsprozessen lösen muss, um überhaupt vorangehen zu können. Das Unternehmen schrieb sich zwar bereits 2022 auf die Fahne, als erstes 3 nm mit Gate all Around (GAA) zu fertigen, doch die Ausbeute war extrem schlecht und quasi kein Produkt nutzte es, sodass es de facto erst im letzten Jahr wirklich losging. Durch die ganzen Probleme bei SF3 war Samsung aber besser aufgestellt für SF2, dem 2-nm-Prozess, von dem diverse Ausbaustufen ab diesem Jahr folgen werden.
Die nächste große Neuheit heißt aber SF1.4. Ursprünglich mal für 2027 geplant und so auf Roadmaps vertreten, sind diese natürlich längst nicht mehr realistisch. Es heißt bereits seit letztem Sommer und auch heute, dass das Jahr 2029 angepeilt wird. Dies wiederum passt auch zur großen Konkurrenz im Markt. Bei TSMC wird A14 im ähnlichem Zeitraum starten, bei Intel 14A ist gemäß Foundry-Roadmap bereits Ende 2027/Anfang 2028 geplant. Bis diese dann aber in echten Produkten sichtbar werden, dürfte noch ein knappes Jahr vergehen.
Was Intel und Samsung nun aber gemeinsam haben sollen, ist die angebliche Nutzung von High-NA-EUV. Bei Intel gab es diesbezüglich zuletzt aber bereits einige Zweifel, es könnte im ersten 14A-Prozess eventuell doch noch ohne ablaufen, erst in der zweiten Runde zum Einsatz kommen. Das wiederum würde dann ein Parallelflug zu Samsung bedeuten.
Samsung plant dabei wie Intel, einige kritische Layer mit High-NA-EUV zu belichten, bevor die regulären EUV- und DUV-Systeme übernehmen. Bei kritischen Layern verspricht High-NA-EUV das meiste Potenzial, Dinge direkt in einem Durchgang zu erledigen, statt viele Schritte mit einem Low-NA-EUV-System. Die ersten Systeme kämpfen wie üblich mit Wirtschaftlichkeit und Zuverlässigkeit – das war bei EUV zum Start aber noch viel ausgeprägter. Diese soll sich bis 2029 deutlich verbessern. Nach bisherigem Stand dürfte Samsung aktuell drei High-NA-Systeme besitzen und damit die Fertigung testen. TSMC wird nach bisherigem Stand High-NA-EUV nicht vor 2030/2031 nutzen.