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Litografia EUV, la Cina mostra una sorgente luminosa: ASML pu� davvero stare tranquilla?
La cinese Langdao Silex ha mostrato FlintNano LPP-OXXO, un prototipo di sorgente EUV con laser da 1.000 W, oltre 15 W di potenza EUV e componenti indigene al 90%. Un passo avanti, ma serviranno anni di sviluppo per arrivare a uno scanner completo paragonabile a quelli di ASML.