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Machine EUV : la Chine aurait encore 15 ans de retard d'après le patron de Zeiss
La Chine cherche à avancer rapidement dans le secteur des machines de photolithographie. Mais elle aurait encore du pain sur la planche !
Les restrictions prises par les États-Unis ces dernières années ont coupé l'accès de la Chine aux meilleurs machines de photolithographie développées par ASML, ces machines qui permettent de graver les puces les plus avancées. L'empire du Milieu depuis essaye de mettre au point ses propres technologies dans le domaine, avec la mise au point de ses premières machines DUV. Mais il y encore du chemin à faire semble-t-il.
ASML aura-t-elle un jour un concurrent à sa mesure ? Un concurrent qui viendrait de Chine ? C'est possible, mais ça prendra du temps… beaucoup de temps, si l'on en croit les dernières paroles du PDG de Zeiss. Une société qui est le partenaire stratégique d'ASML, puisqu'elle fabrique les systèmes optiques, les lentilles et les miroirs ultra-précis de ses machines.
Frank Rohmund s'est ainsi exprimé sur cette question durant la conférence SEMICON à Taiwan. Il a ainsi expliqué que l'idée que la Chine avait encore 15 ans de retard dans les machines EUV était une « hypothèse probablement raisonnable ».
Ici on parle évidemment des appareils de pointe d'ASML, qui coûtent près de 400 millions de dollars à l'unité. Mais même pour ce qui est des machines DUV, moins puissantes, et dans lesquelles la Chine veut essayer de faire une percée, Frank Rohmund s'est là aussi montré un peu sceptique.
« Il nous faut maintenant évaluer les capacités réelles de ces outils. Nous sommes convaincus que, en termes de performances, de productivité, de convivialité et de capacités de service, nous avons toujours une longueur d'avance » a-t-il commenté. Alors, excès de confiance, ou lucidité ?