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Samsung non accelera, il processo a 1,4 nanometri non prima del 2029: la litografia High-NA EUV al centro della strategia
Samsung avrebbe fissato al 2029 il debutto del processo a 1,4nm (SF1.4), basato sulla litografia High-NA EUV, dopo aver stabilizzato le rese sui 3 e 2 nanometri. Il rinvio allinea Samsung ai tempi di TSMC e Intel, anch'esse impegnate su tecnologie litografiche di nuova generazione, ma con approcci differenti.